徐州地区处理FSEFU-20PEB-RH-1200蒸发 台

FSEFU-20PEB-RH-1200蒸发台

1.基本功能与设计

设备类型:电子束蒸发系统(PEB代表电子束蒸

发技术),适用于光学薄膜、半导体或材料科学领域

的真空镀膜应用。

品牌归属:可能属于台湾富临科技(FULINTEC)，

该公司专注于真空镀膜设备研发。

2.关键技术参数

基片处理能力:支持2英寸晶圆,单次处理量可达

102片,适合中大规模生产。

温度控制:基片加热范围为室温至300℃,可通

过PLC或触摸屏实现精确调控。

膜厚均匀性:在3000Â(0.3um)厚度下,均匀性

≤3%,满足高精度镀膜需求。

蒸发材料:兼容多种金属、氧化物及化合物,例

如SiO2、TiO2、Al、Ag等。

真空系统:虽未直接提及,但同类设备通常配备

分子泵+机械泵组合,极限真空可达10‘Torr量级,确

保镀膜环境纯净。